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    掃描電鏡
    • 國儀量子鎢燈絲掃描電子顯微鏡SEM3200,電子天平_紅外光譜儀_實驗室分析儀器_長沙創(chuàng)航科學儀器有限公司
    國儀量子鎢燈絲掃描電子顯微鏡SEM3200
    簡要說明:
    多種信息同時成像
    背散射電子探測器
    自動聚焦\自動消像散\自動亮度對比度
    公司電話:0731-85238098
    聯(lián)系手機:13755178098
    官方網(wǎng)址:http://www.tmaiqq.cn/
    產(chǎn)品詳情

    鎢燈絲掃描電子顯微鏡SEM3200

    SEM3200是一款高性能、應用廣泛的通用型鎢燈絲掃描電子顯微鏡。擁有出色的成像質量、可兼容低真空模式、在不同的視場范圍下均可得到高分辨率圖像。

    大景深,成像富有立體感。豐富的擴展性,助您在顯微成像的世界中盡情探索。

    微信圖片_20240718142946.jpg

    產(chǎn)品特點(*為選配件)

     

    低電壓

    碳材料樣品,低電壓下,穿透深度較小,可以獲取樣品表面真實形貌,細節(jié)更豐富。

    低電�?1.jpg

    毛發(fā)樣品,在低電壓下,電子束輻照損傷減小,同時消除了荷電效應。

    毛發(fā)樣品.jpg

    低真空

    過濾纖維管材料,導電性差,在高真空下荷電明顯,在低真空下,無需鍍膜即可實現(xiàn)對不導電樣品的直接觀察。

    低真�?1.jpg

    大視場

    生物樣品,采用大視場觀察,能夠輕松獲得瓢蟲整體形貌及頭部結構細節(jié),展現(xiàn)跨尺度分析。

     大視�?1.jpg

    導航&防碰撞

    光學導航

    想看哪里點哪里,導航更輕松

    標配倉內攝像頭,可拍攝高清樣品臺照片,快速定位樣品。

    光學導航.jpg

    手勢快捷導航

    可通過雙擊移動、鼠標中鍵拖動、框選放大,進行快捷導航

    如框選放大:在低倍導航下,獲得樣品的大視野情況,可快速框選您感興趣的樣品區(qū)域,提高工作效率。

    手勢快捷導航.jpg

    防碰撞技術

    采取多維度的防碰撞方案:

    1. 手動輸入樣品高度,精準控制樣品與物鏡下端距離,防止發(fā)生碰撞;

    2. 基于圖像識別和動態(tài)捕捉技術,運動過程中對倉內的畫面進行實時監(jiān)測;

    3. 硬件防碰撞,可在碰撞一瞬間停止電機,減少碰撞損傷。(*SEM3200A需選配此功能)

    防碰撞技�?1.jpg

    特色功能

    智能輔助消像散

    直觀反映整個視野的像散程度,通過鼠標點擊清晰處,可快速調節(jié)像散至最佳。


    智能輔助消散�?1.jpg

    自動聚焦

    一鍵聚焦,快速成像。

    自動聚焦.jpg

    自動消像散

    一鍵消像散,提高工作效率。


    自動消像�?1.jpg

    自動亮度對比度

    一鍵自動亮度對比度,調出灰度合適圖像。


    自動亮度對比�?1.jpg

    多種信息同時成像

    SEM3200軟件支持一鍵切換SE和BSE的混合成像?赏瑫r觀察到樣品的形貌信息和成分信息。

    多種信息同時成像.jpg

    快速圖像旋轉

    拖動一條線,圖像立刻“擺正角度”。


    快速圖像旋�?1.jpg

    豐富拓展性

    掃描電子顯微鏡不僅局限于表面形貌的觀察,更可以進行樣品表面的微區(qū)成分分析。

    SEM3200接口豐富,除支持常規(guī)的二次電子探測器(ETD)、背散射電子探測器(BSED)、X射線能譜儀(EDS)外,也預留了諸多接口,如電子背散射衍射(EBSD)、陰極射線(CL)等探測器都可以在SEM3200上進行集成。


    背散射電子探測器

    二次電子成像和背散射電子成像對比

    背散射電子成像模式下,荷電效應明顯減弱,并且可以獲得樣品表面更多的成分信息。

    鍍層樣品:

    鍍層樣�?1.jpg

    鎢鋼合金樣品:

    鎢鋼合金樣品.jpg

    四分割背散射電子探測器——多通道成像

    探測器設計精巧,靈敏度高,采用4分割設計,無需傾斜樣品,可獲得不同方向的陰影像以及成分分布圖像。

    四分割背散射.jpg

    能譜

    LED小燈珠能譜面分析結果。

    能譜.jpg

    電子背散射衍射

    鎢燈絲電鏡束流大,完全滿足高分辨EBSD的測試需求,能夠對金屬、陶瓷、礦物等多晶材料進行晶體取向標定以及晶粒度大小等分析。

    該圖為Ni金屬標樣的EBSD反極圖,能夠識別晶粒大小和取向,判斷晶界和孿晶,對材料組織結構進行精確判斷。

    應用案例


    產(chǎn)品參數(shù)

    型號SEM3200ASEM3200
    電子光學系統(tǒng)電子槍類型預對中型發(fā)叉式鎢燈絲電子槍
    分辨率高真空3 nm @ 30 kV(SE)
    4 nm @ 30 kV(BSE)
    8 nm @ 3 kV(SE)
    *低真空3 nm @ 30 kV(SE)
    放大倍率1-300,000x(底片倍率)
    1-1000,000x(屏幕倍)
    加速電壓0.2 kV~30 kV
    成像系統(tǒng)探測器二次電子探測器(ETD)
    *背散射電子探測器、*低真空二次電子探測器、*能譜儀EDS等
    圖像保存格式TIFF、JPG、BMP、PNG
    真空系統(tǒng)真空模式高真空優(yōu)于5×10-4 Pa
    *低真空5~1000 Pa
    控制方式全自動控制
    樣品室攝像頭光學導航
    樣品倉內監(jiān)控
    樣品臺配置三軸自動五軸自動
    行程X: 120 mmX: 120 mm
    Y: 115 mmY: 115 mm
    Z: 50 mmZ: 50 mm
    /R: 360°
    /T: -10°~ +90°
    軟件語言中文
    操作系統(tǒng)Windows
    導航光學導航、手勢快速導航
    自動功能自動亮度對比度、自動聚焦、自動像散
    特色功能智能輔助消像散、*大圖拼接(選配軟件)
    安裝要求房間長 ≥ 3000 mm,寬 ≥ 4000 mm,高 ≥ 2300 mm
    溫度20 ℃~25 ℃
    濕度≤ 50 %
    電氣參數(shù)電源AC 220 V(±10 %),50 Hz,2 kVA


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